|
儀器設備列表
|
|
微影製程
|
|
儀器名稱
|
儀器位置
|
儀器負責人
|
備註
|
|
Spin Coater (Multi Steps / 2 Steps)
光阻旋轉塗佈機 (多段式、兩段式)
|
卓越大樓 黃光室
|
呂國聖
|
|
|
Aligner (MA8/BA8)
曝光機 (MA8/BA8)
|
卓越大樓 黃光室
|
呂國聖
|
|
|
Aligner (MA6/BA6)
曝光機 (MA6/BA6)
|
卓越大樓 黃光室
|
呂國聖
|
|
|
Laser lithography (DWL2000)
雷射繪圖機
|
卓越大樓 黃光室
|
呂國聖
|
不開放使用者使用
|
|
Digital Hot Plate
加熱板
|
卓越大樓 黃光室
|
黃詩淳
|
|
|
Oven
烘箱
|
卓越大樓 黃光室
|
黃詩淳
|
|
|
乾式蝕刻
|
|
儀器名稱
|
儀器位置
|
儀器負責人
|
備註
|
|
ICP-RIE (Si DRIE)
電感耦合電漿蝕刻機 (矽深蝕刻)
|
卓越大樓 乾蝕刻室
|
陳昱達
|
|
|
ICP-RIE (Multi Material Etcher)
電感耦合電漿蝕刻機 (多材料蝕刻)
|
卓越大樓 乾蝕刻室
|
陳昱達
|
|
|
RIE Descum
電漿清洗機
|
卓越大樓 乾蝕刻室
|
陳昱達
|
|
|
O2 Plasma
氧電漿清洗機
|
卓越大樓 乾蝕刻室
|
陳昱達
|
|
|
薄膜沉積
|
|
儀器名稱
|
儀器位置
|
儀器負責人
|
備註
|
|
LPCVD
低壓化學氣相沉積系統
|
卓越大樓 爐管室
|
陳昱達
|
|
|
APCVD
常壓化學氣相沉積系統
|
卓越大樓 爐管室
|
陳昱達
|
|
|
PECVD
電漿輔助化學氣相沉積系統
|
卓越大樓 爐管室
|
陳昱達
|
|
|
E-beam Evaporator (Metal)
電子束蒸鍍機 (金屬)
|
卓越大樓 薄膜室
|
黃詩淳
|
坩堝尺寸
上直徑3.7公分
下直徑2.8公分
高1.75公分
壁厚0.35公分
底厚1公分
|
|
E-beam Evaporator (Oxide)
電子束蒸鍍機 (氧化物)
|
卓越大樓 薄膜室
|
黃詩淳
|
|
Sputter
濺鍍機
|
卓越大樓 薄膜室
|
黃詩淳
|
4"靶材使用
Gun 2的靶材須加裝Keeper(厚6.5mm,直徑31.3mm)
|
|
量測分析
|
|
儀器名稱
|
儀器位置
|
儀器負責人
|
備註
|
|
SEM
掃描式電子顯微鏡
|
卓越大樓 分析室
|
黃詩淳
|
|
|
EDS
能量色散光譜儀
|
卓越大樓 分析室
|
黃詩淳
|
|
|
Sputter Coater
鍍金機
|
卓越大樓 分析室
|
黃詩淳
|
|
|
Surface Profiler
表面輪廓儀
|
卓越大樓 分析室
|
黃詩淳
|
|
|
Laser Confocal Microscope
雷射共軛聚焦顯微鏡
|
卓越大樓 分析室
|
黃詩淳
|
|
|
Ellipsometer
橢圓偏振儀
|
卓越大樓 分析室
|
黃詩淳
|
|
|
Semiconductor Analyzer
半導體參數分析儀
|
卓越大樓 分析室
|
黃詩淳
|
|
|
Film Thickness Reflectometer
反射式膜厚分析儀
|
卓越大樓 分析室 |
呂國聖 |
|
|
Optical Microscope
光學顯微鏡
|
卓越大樓 黃光室
|
黃詩淳
|
|
|
其他製程
|
|
儀器名稱
|
儀器位置
|
儀器負責人
|
備註
|
|
Rapid Thermal Anneaing
快速熱退火儀
|
卓越大樓 爐管室
|
黃詩淳
|
|
|
Ultrasonic Cleaners
超音波清洗器
|
卓越大樓 黃光室
|
呂國聖
|
|
|
Chemical Hood
化學清洗槽
|
卓越大樓 黃光室、濕蝕刻室
|
呂國聖
|
|
|
Wafer Bonder
晶片接合機
|
卓越大樓 黃光室
|
呂國聖
|
不開放使用者使用
|