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奈米機電系統研究中心

曝光機 (MA6/BA6)-卓越大樓

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儀器名稱

曝光機 (MA6/BA6)

SUSS / MABA6

用途

製造微機電、光電、二極體大規模積體電路的關鍵影像轉移設備,原理是利用紫外線通過光罩、底片等圖案模版,並搭配顯影劑使用,去除晶圓表面的光阻,以形成積體電路圖案。

儀器規格

  • 光罩載台大小:3”~6” (載台最大曝光範圍4“)
  • 晶圓大小:~6”
  • 可曝光區域:6"
  • 汞燈:350 W
  • 曝光波段:I (365nm)、 H (405nm) 、 G (436nm)line
  • 曝光強度:現場標示
  • 對準系統:雙面
  • 解析度:0.8~2.5 um

注意事項

  1. 只有已通過訓練及檢定之使用者允許操作本儀器。
  2. 因光阻為有機溶劑,操作請戴上耐酸鹼手套。
  3. 曝光時UV會傷害眼睛,請勿直視。
  4. 更換載台請輕拉輕放,以免磨損。
  5. 旋轉XY旋鈕,移動晶圓載台時,請小心轉動,以免旋鈕損壞。
  6. 使用完請復歸。
使用說明書
  • 使用者手冊
  • User manual    
儀器課程名稱
  • [CRE] MA6 Aligner