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儀器名稱
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曝光機 (MA6/BA6)
SUSS / MABA6
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用途
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製造微機電、光電、二極體大規模積體電路的關鍵影像轉移設備，原理是利用紫外線通過光罩、底片等圖案模版，並搭配顯影劑使用，去除晶圓表面的光阻，以形成積體電路圖案。
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儀器規格
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- 光罩載台大小：3”~6” (載台最大曝光範圍4“)
- 晶圓大小：~6”
- 可曝光區域：6"
- 汞燈：350 W
- 曝光波段：I (365nm)、 H (405nm) 、 G (436nm)line
- 曝光強度：現場標示
- 對準系統：雙面
- 解析度：0.8~2.5 um
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注意事項
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- 只有已通過訓練及檢定之使用者允許操作本儀器。
- 因光阻為有機溶劑,操作請戴上耐酸鹼手套。
- 曝光時UV會傷害眼睛，請勿直視。
- 更換載台請輕拉輕放，以免磨損。
- 旋轉XY旋鈕，移動晶圓載台時，請小心轉動，以免旋鈕損壞。
- 使用完請復歸。
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| 使用說明書 |
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| 儀器課程名稱 |
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