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奈米機電系統研究中心

卓越大樓無塵室

 

(新制) 儀器訓練暨檢定收費標準 (自2024年7月1日起適用) 

 收費項目 學術單位 營利機構 開課人數
  訓練 檢定 訓練 檢定  
Safety Training 300元 600元 6人開課
微影製程
MA8 Aligner 1,080元 1,080元 2,160元 2,160元 3~5人
MA6 Aligner 1,080元 1,080元 2,160元 2,160元 3~5人
Laser lithography-DWL2000 不開放自行操作 不開放自行操作 不開放自行操作 不開放自行操作  
乾式蝕刻
Samco ICP 1,080元 1,080元 2,160元 2,160元 3~5人
Oxford ICP 1,080元 1,080元 2,160元 2,160元 3~5人
RIE Descum 720元 720元 1,440元 1,440元 3~5人
O2 Plasma 720元 720元 1,440元 1,440元 3~5人
薄膜沉積
LPCVD 不開放自行操作 不開放自行操作 不開放自行操作 不開放自行操作  
APCVD 不開放自行操作 不開放自行操作 不開放自行操作 不開放自行操作  
Oxford PECVD 1,080元 1,080元 2,160元 2,160元 3~5人
E-beam Evap 720元 720元 1,440元 1,440元 3~5人
Sputter 720元 720元 1,440元 1,440元 3~5人
量測分析
SEM/EDS 1,080元
*練習:540元
1,080元 2,160元
*練習:1,080元
2,160元 3~5人
P-7 Stylus Profiler 720元 720元 1,440元 1,440元 3~5人
Laser Confocal 720元 720元 1,440元 1,440元 3~5人
Ellipsometer 720元 720元 1,440元 1,440元 3~5人
Semi Analyzer 720元 720元 1,440元 1,440元 3~5人
F20 Reflectometer 720元 720元 1,440元 1,440元 3~5人
其他製程
Wafer bonder 不開放自行操作 不開放自行操作 不開放自行操作 不開放自行操作  
RTA 720元 720元 1,440元 1,440元 3~5人

 以上為中心每月排定課程費用 。

加開課程費用為原價之2倍 。
(課程人數需符合最低開課人數)

 

2024年6月30日以前之舊制儀器訓練暨檢定收費標準請參考以下網址

儀器自行操作費用列表


收費項目 校內/學術單位 營利機構 備註
潔淨室 3元/分 6元/分  
化學藥品使用 600元/罐 1200元/罐 丙酮
空間使用費 2400元/年 2400元/年 大置物櫃
空間使用費 1200元/年 1200元/年 小置物櫃
空間使用費 3000元/年 3000元/年 白色鐵櫃(大)
空間使用費 2000元/年 2000元/年 白色鐵櫃(小)
微影製程
Spin Coater (Multi Steps / 2 Steps )
光阻旋轉塗佈機 (多段式、兩段式)
3元/分 6元/分  
Aligner (MA8/BA8)
曝光機 (MA8/BA8)
420(前30分鐘不計費)+11元/分
(即開機費420元)
840+22元/分
(即開機費840元)
 
Aligner (MA6/BA6)
曝光機 (MA6/BA6)
350(前30分鐘不計費)+9元/分
(即開機費350元)
700(前30分鐘不計費)+18元/分
(即開機費700元)
 
Laser Lithography (DWL2000)
雷射繪圖機
8,400元 六吋
6,000元 五吋
5,400元 四吋
600元(審圖費/小時)
16,800元 六吋
12,000元 五吋
10,800元 四吋
1,200元(審圖費/小時)

不開放自行操作
特殊使用:
學界:75元/分;業界:150元/分
(製程需先經測試,測試流程請洽中心人員)

薄膜沉積
APCVD
常壓化學氣相沉積系統
1,000+18-20元/分(即開機費1,000元;依材料) 2,000+36-40元/分(即開機費2,000元;依材料) (未開放使用)
LPCVD
低壓化學氣相沉積系統
1,000+18-36元/分(即開機費1,000元;依材料) 2,000+36-72元/分(即開機費2,000元;依材料) (未開放使用)
PECVD
電漿輔助化學氣相沉積系統
600+30元/分
 (即開機費600元)
1,200+60元/分
 (即開機費1,200元)
 
E-beam Evaporator ( Metal)
電子束蒸鍍機 (金屬)
30分鐘內520元;
超過30分鐘: 520+6元/分
30分鐘內1,040元;
超過30分鐘: 1,040+12元/分
 
E-beam Evaporator (Oxide)
電子束蒸鍍機 (氧化物)
30分鐘內520元;
超過30分鐘: 520+6元/分
30分鐘內1,040元;
超過30分鐘: 1,040+12元/分
 
Sputter
濺鍍機
30分鐘內520元;
超過30分鐘: 520+15元/分
30分鐘內1,040元;
超過30分鐘: 1,040+30元/分
 
乾式蝕刻
ICP-RIE (Si DRIE)
電感耦合電漿蝕刻機 (矽深蝕刻)
240(前5分鐘免費)+72元/分
 (即開機費240元)
480(前5分鐘免費)+144元/分
 (即開機費480元)
 
ICP-RIE (Multi Material Etcher)
電感耦合電漿蝕刻機 (多材料蝕刻)
240(前5分鐘免費)+72元/分
 (即開機費240元)
480(前5分鐘免費)+144元/分
 (即開機費480元)
 
RIE Descum
電漿清洗機
200+30元/分
 (即開機費200元)
400+60元/分
 (即開機費400元)
 
O2 Descum
氧電漿清洗機
240+36元/分
 (即開機費240元)
480+72元/分
 (即開機費480元)
 
量測分析
SEM
掃描式電子顯微鏡

60分鐘內720元;

超過60分鐘:720+360元/30分

60分鐘內1,440元;

超過60分鐘:1,440+720元/30分

不足30分鐘以30分鐘計算
EDS
能量色散光譜儀
240元/30分 480元/30分 不足30分鐘以30分鐘計算
Sputter Coater
SEM鍍金機
300元/30分 600元/30分 不足30分鐘以30分鐘計算
Surface Profiler
表面輪廓儀
7元/分 14元/分  
Laser confocal microscope
雷射共軛聚焦顯微鏡
7元/分 14元/分  
Ellipsometer
橢圓偏振儀
7元/分 14元/分  
Semiconductor Analyzer
半導體參數分析儀
7元/分 14元/分  
Film Thickness Reflectometer
 反射式膜厚分析儀
7元/分 14元/分  
其他製程
Wafer bonder
晶片接合機
60分鐘內510元;
超過60分鐘:510+6元/分
60分鐘內1,020元;
超過60分鐘:1,020+12元/分
 不開放自行操作
Optical Microscope
光學顯微鏡
1元/分 2元/分  
Rapid Thermal Anneaing
快速退火爐
120分鐘內900元;超過120分鐘:900+6元/分 120分鐘內1,800元;超過120分鐘:1,800+12元/分  
       

 

以上為自行操作之儀器使用費;若為委託中心人員代為操作需要「乘以」1.2(學校管理費) 
 

(舊制) 儀器訓練暨檢定收費標準 (2024年6月30日以前) 

收費項目

學術單位

營利機構

開課人數

 

訓練

檢定

訓練

檢定

 

卓越大樓實驗室安全訓練

300

600

6人開課

微影製程

SUSS MA8/BA8
曝光機 MA8/BA8

+

Spin Coater

1,080

1,080

2,160

2,160

3~5

SUSS MA6/BA6
曝光機 MA6/BA6

+

Spin Coater

1,080

1,080

2,160

2,160

3~5

Laser lithography-DWL2000
雷射繪圖機

不開放自行操作

不開放自行操作

不開放自行操作

不開放自行操作

 

乾式蝕刻

Samco ICP
矽蝕刻-電感耦合電漿蝕刻機

1,080
*練習:540

1,080

2,160
*練習:1,080

2,160

3~5

Oxford ICPRIE
多材料蝕刻-電感耦合電漿蝕刻機

1,080
*練習:540

1,080

2,160
*練習:1,080

2,160

3~5

RIE Descum
反應離子蝕刻清洗機

720

720

1,440

1,440

3~5

O2 Descum
氧電漿清洗機

720

720

1,440

1,440

3~5

薄膜沉積

LPCVD
低壓化學氣相沉積系統

不開放自行操作

不開放自行操作

不開放自行操作

不開放自行操作

 

APCVD
常壓化學氣相沉積系統

不開放自行操作

不開放自行操作

不開放自行操作

不開放自行操作

 

PECVD
電漿輔助化學氣相沉積系統

1,080
*練習:540

1,080

2,160
*練習:1,080

2,160

3~5

E-Beam Metal
電子束蒸鍍機(金屬)

720

720

1,440

1,440

3~5

E-Beam Oxide
電子束蒸鍍機(氧化物)

720

720

1,440

1,440

3~5

Sputter
濺鍍機

720

720

1,440

1,440

3~5

量測分析

SEM

掃描式電子顯微鏡

+

EDS

能量色散光譜儀

+

Sputter Coater

鍍金機

1,080
*練習:540

1,080

2,160
*練習:1,080

2,160

3~5

Surface Profiler
表面輪廓儀

720

720

1,440

1,440

3~5

Laser confocal microscope
雷射共軛聚焦顯微鏡

720

720

1,440

1,440

3~5

Ellipsometer
橢圓偏振儀

720

720

1,440

1,440

3~5

Semiconductor Analyzer
半導體參數分析儀

720

720

1,440

1,440

3~5

Film Thickness Reflectometer
 
反射式膜厚分析儀

720

720

1,440

1,440

3~5

其他製程

Wafer bonder
晶片接合機

不開放自行操作

不開放自行操作

不開放自行操作

不開放自行操作

 

Rapid Thermal Anneaing
快速熱退火儀

720

720

1,440

1,440

3~5

 

以上為中心每月排定課程費用

加開課程費用為原價之2
(課程人數需符合最低開課人數)