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奈米機電系統研究中心

卓越大樓無塵室

 

(新制) 儀器訓練暨檢定收費標準 (自2024年7月1日起適用) 

 收費項目 學術單位 營利機構 開課人數
  訓練 檢定 訓練 檢定  
Safety Training 300元 600元 6人開課
微影製程

MA8 Aligner

(含Spin Coater)

1,080元 1,080元 2,160元 2,160元 3~6人

MA6 Aligner

(含Spin Coater)

1,080元 1,080元 2,160元 2,160元 3~6人
Laser lithography-DWL2000 不開放自行操作 不開放自行操作 不開放自行操作 不開放自行操作  
乾式蝕刻
Samco ICP 1,080元 1,080元 2,160元 2,160元 3~6人
Oxford ICP 1,080元 1,080元 2,160元 2,160元 3~6人
RIE Descum 720元 720元 1,440元 1,440元 3~6人
O2 Plasma 720元 720元 1,440元 1,440元 3~6人
薄膜沉積
LPCVD 不開放自行操作 不開放自行操作 不開放自行操作 不開放自行操作  
APCVD 不開放自行操作 不開放自行操作 不開放自行操作 不開放自行操作  
Oxford PECVD 1,080元 1,080元 2,160元 2,160元 3~6人
E-beam Evap 720元 720元 1,440元 1,440元 3~6人
Sputter 720元 720元 1,440元 1,440元 3~6人
量測分析

SEM/EDS

(含Sputter Coater)

1,080元
*練習:540元
1,080元 2,160元
*練習:1,080元
2,160元 3~4人
P-7 Stylus Profiler 720元 720元 1,440元 1,440元 3~6人
Laser Confocal 720元 720元 1,440元 1,440元 3~6人
Ellipsometer 720元 720元 1,440元 1,440元 3~6人
Semi Analyzer 720元 720元 1,440元 1,440元 3~6人
F20 Reflectometer 720元 720元 1,440元 1,440元 3~6人
其他製程
Wafer Bonder 不開放自行操作 不開放自行操作 不開放自行操作 不開放自行操作  
RTA 720元 720元 1,440元 1,440元 3~6人

 以上為中心每月排定課程費用 。

加開課程費用為原價之2倍 。
(課程人數需符合最低開課人數)

 

2024年6月30日以前之舊制儀器訓練暨檢定收費標準請參考以下網址

(新制) 儀器自行操作費用列表 (自2024年9月1日起適用)


收費項目 校內/學術單位 營利機構 備註
潔淨室 3元/分 9元/分  
化學藥品使用 600元/罐 1200元/罐 丙酮
空間使用費 2400元/年 2400元/年 大置物櫃
空間使用費 1200元/年 1200元/年 小置物櫃
空間使用費 3000元/年 3000元/年 白色鐵櫃(大)
空間使用費 2000元/年 2000元/年 白色鐵櫃(小)
微影製程
Spin Coater (Multi Steps / 2 Steps )
光阻旋轉塗佈機 (多段式、兩段式)
3元/分 9元/分  
Aligner (MA8/BA8)
曝光機 (MA8/BA8)

12元/分

36元/分  
Aligner (MA6/BA6)
曝光機 (MA6/BA6)

10元/分

30元/分  
Laser Lithography (DWL2000)
雷射繪圖機
五吋光罩 5200元/片
四吋光罩 4800元/片
(價格包含審圖費及四小時操作費)

五吋光罩 10000元/片
四吋光罩 9600
元/片
(價格包含審圖費及四小時操作費)

不開放自行操作
特殊使用:
學界:75元/分;業界:150元/分
(製程需先經測試,測試流程請洽中心人員)

薄膜沉積
APCVD
常壓化學氣相沉積系統
11元/分 55元/分 (未開放使用)
LPCVD
低壓化學氣相沉積系統
11元/分 55元/分 (未開放使用)
PECVD
電漿輔助化學氣相沉積系統

12元/分

60元/分

 
E-beam Evaporator ( Metal)
電子束蒸鍍機 (金屬)

11元/分

33元/分

 
E-beam Evaporator (Oxide)
電子束蒸鍍機 (氧化物)

11元/分

33元/分

 
Sputter
濺鍍機

11元/分

33元/分

 
乾式蝕刻
ICP-RIE (Si DRIE)
電感耦合電漿蝕刻機 (矽深蝕刻)

14元/分

70元/分

 
ICP-RIE (Multi Material Etcher)
電感耦合電漿蝕刻機 (多材料蝕刻)

14元/分

70元/分

 
RIE Descum
電漿清洗機

12元/分

36元/分

 
O2 Descum
氧電漿清洗機

10元/分

30元/分

 
量測分析
SEM
掃描式電子顯微鏡

10元/分

30元/分

 
EDS
能量色散光譜儀

8元/分

24元/分

 
Sputter Coater
SEM鍍金機

10元/分

30元/分

 
P-7 Stylus Profiler
表面輪廓儀

7元/分

21元/分

 
Laser Confocal Microscope
雷射共軛聚焦顯微鏡

7元/分

21元/分

 
Ellipsometer
橢圓偏振儀

7元/分

21元/分

 
Semiconductor Analyzer
半導體參數分析儀

7元/分

21元/分

 
Film Thickness Reflectometer
 反射式膜厚分析儀

7元/分

21元/分

 
其他製程
Wafer Bonder
晶片接合機
9元/分 45元/分  不開放自行操作
Optical Microscope
光學顯微鏡
1元/分 3元/分  
Rapid Thermal Anneaing
快速退火爐

9元/分

27元/分

 

 

以上為自行操作之儀器使用費;若為委託中心人員代為操作需要「乘以」1.2(學校管理費) 

2024年8月31日以前之儀器自行操作費用請參考以下網址

(舊制) 儀器訓練暨檢定收費標準 (2024年6月30日以前) 

收費項目

學術單位

營利機構

開課人數

 

訓練

檢定

訓練

檢定

 

卓越大樓實驗室安全訓練

300

600

6人開課

微影製程

SUSS MA8/BA8
曝光機 MA8/BA8

+

Spin Coater

1,080

1,080

2,160

2,160

3~5

SUSS MA6/BA6
曝光機 MA6/BA6

+

Spin Coater

1,080

1,080

2,160

2,160

3~5

Laser lithography-DWL2000
雷射繪圖機

不開放自行操作

不開放自行操作

不開放自行操作

不開放自行操作

 

乾式蝕刻

Samco ICP
矽蝕刻-電感耦合電漿蝕刻機

1,080
*練習:540

1,080

2,160
*練習:1,080

2,160

3~5

Oxford ICPRIE
多材料蝕刻-電感耦合電漿蝕刻機

1,080
*練習:540

1,080

2,160
*練習:1,080

2,160

3~5

RIE Descum
反應離子蝕刻清洗機

720

720

1,440

1,440

3~5

O2 Descum
氧電漿清洗機

720

720

1,440

1,440

3~5

薄膜沉積

LPCVD
低壓化學氣相沉積系統

不開放自行操作

不開放自行操作

不開放自行操作

不開放自行操作

 

APCVD
常壓化學氣相沉積系統

不開放自行操作

不開放自行操作

不開放自行操作

不開放自行操作

 

PECVD
電漿輔助化學氣相沉積系統

1,080
*練習:540

1,080

2,160
*練習:1,080

2,160

3~5

E-Beam Metal
電子束蒸鍍機(金屬)

720

720

1,440

1,440

3~5

E-Beam Oxide
電子束蒸鍍機(氧化物)

720

720

1,440

1,440

3~5

Sputter
濺鍍機

720

720

1,440

1,440

3~5

量測分析

SEM

掃描式電子顯微鏡

+

EDS

能量色散光譜儀

+

Sputter Coater

鍍金機

1,080
*練習:540

1,080

2,160
*練習:1,080

2,160

3~5

Surface Profiler
表面輪廓儀

720

720

1,440

1,440

3~5

Laser confocal microscope
雷射共軛聚焦顯微鏡

720

720

1,440

1,440

3~5

Ellipsometer
橢圓偏振儀

720

720

1,440

1,440

3~5

Semiconductor Analyzer
半導體參數分析儀

720

720

1,440

1,440

3~5

Film Thickness Reflectometer
 
反射式膜厚分析儀

720

720

1,440

1,440

3~5

其他製程

Wafer bonder
晶片接合機

不開放自行操作

不開放自行操作

不開放自行操作

不開放自行操作

 

Rapid Thermal Anneaing
快速熱退火儀

720

720

1,440

1,440

3~5

 

以上為中心每月排定課程費用

加開課程費用為原價之2
(課程人數需符合最低開課人數)