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收費項目
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校內/學術單位
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營利機構
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備註
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潔淨室
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3元/分
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9元/分
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化學藥品使用
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600元/罐
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1200元/罐
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丙酮
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空間使用費-大置物櫃
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2400元/年
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7200元/年
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年度區間：每年4/1-隔年3/31
新費用自2027年4月1日起適用
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空間使用費-小置物櫃
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1200元/年
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3600元/年
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空間使用費-白色鐵櫃(大)
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3000元/年
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9000元/年
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空間使用費-白色鐵櫃(小)
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2000元/年
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6000元/年
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空間使用費-黃光置物櫃
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2000元/年
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6000元/年
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微影製程
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Spin Coater (Multi Steps / 2 Steps )
光阻旋轉塗佈機 (多段式、兩段式)
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3元/分
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9元/分
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Aligner (MA8/BA8)
曝光機 (MA8/BA8)
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12元/分
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36元/分
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Aligner (MA6/BA6)
曝光機 (MA6/BA6)
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10元/分
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30元/分
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Laser Lithography (DWL2000)
雷射繪圖機
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僅委託代工
五吋光罩 6800元/片
四吋光罩 6400元/片
(包含審圖費及四小時操作費)
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僅委託代工
五吋光罩 10400元/片
四吋光罩 10000元/片
(包含審圖費及四小時操作費)
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雷射直寫:
學界:75元/分
業界:150元/分
(請洽中心人員)
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薄膜沉積
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APCVD
常壓化學氣相沉積系統
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11元/分
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55元/分
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(未開放使用)
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LPCVD
低壓化學氣相沉積系統
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11元/分
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55元/分
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(未開放使用)
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PECVD
電漿輔助化學氣相沉積系統
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12元/分
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60元/分
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E-beam Evaporator ( Metal)
電子束蒸鍍機 (金屬)
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11元/分
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33元/分
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E-beam Evaporator (Oxide)
電子束蒸鍍機 (氧化物)
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11元/分
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33元/分
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Sputter
濺鍍機
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11元/分
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33元/分
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乾式蝕刻
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ICP-RIE (Si DRIE)
電感耦合電漿蝕刻機 (矽深蝕刻)
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14元/分
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70元/分
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ICP-RIE (Multi Material Etcher)
電感耦合電漿蝕刻機 (多材料蝕刻)
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14元/分
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70元/分
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RIE Descum
電漿清洗機
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12元/分
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36元/分
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O2 Descum
氧電漿清洗機
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10元/分
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30元/分
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量測分析
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SEM
掃描式電子顯微鏡
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15元/分
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45元/分
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EDS
能量色散光譜儀
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8元/分
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24元/分
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(取消此項目，與SEM合併一台卡機)
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Sputter Coater
SEM鍍金機
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10元/分
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30元/分
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P-7 Stylus Profiler
表面輪廓儀
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8元/分
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24元/分
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Laser Confocal Microscope
雷射共軛聚焦顯微鏡
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8元/分
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24元/分
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Ellipsometer
橢圓偏振儀
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8元/分
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24元/分
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Semiconductor Analyzer
半導體參數分析儀
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8元/分
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24元/分
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Film Thickness Reflectometer
反射式膜厚分析儀
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8元/分
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24元/分
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Contactless Sheet Resistance Measurement System
非接觸式片電阻量測系統
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8元/分
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24元/分
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其他製程
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Wafer Bonder
晶片接合機
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9元/分
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45元/分
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不開放自行操作
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Optical Microscope
光學顯微鏡
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1元/分
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3元/分
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Rapid Thermal Anneaing
快速退火爐
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9元/分
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27元/分
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