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奈米機電系統研究中心

卓越大樓無塵室

(新制儀器訓練暨檢定收費標準 (202541日起適用

 收費項目

學術單位

營利機構

開課人數

 

訓練

檢定

訓練

檢定

 

Safety Training

Online Test

300

600

6人開課

CRE Cleanroom Training

300

600

6人開課

微影製程

MA8 Aligner

(Spin Coater)

1,200

1,200

2,400

2,400

3~6

MA6 Aligner

(Spin Coater)

1,200

1,200

2,400

2,400

3~6

Laser lithography-DWL2000

不開放自行操作

不開放自行操作

不開放自行操作

不開放自行操作

 

乾式蝕刻

Samco ICP

1,200

1,200

2,400

2,400

3~6

Oxford ICP

1,200

1,200

2,400

2,400

3~6

RIE Descum

800

800

1,600

1,600

3~6

O2 Plasma

800

800

1,600

1,600

3~6

薄膜沉積

LPCVD

不開放自行操作

不開放自行操作

不開放自行操作

不開放自行操作

 

APCVD

不開放自行操作

不開放自行操作

不開放自行操作

不開放自行操作

 

Oxford PECVD

1,200

1,200

2,400

2,400

3~6

E-beam Evap

800

800

1,600

1,600

3~6

Sputter

800

800

1,600

1,600

3~6

量測分析

SEM/EDS

(Sputter Coater)

1,200
*練習:1,200

1,200

2,400
*練習:2,400

2,400

3~4

P-7 Stylus Profiler

800

800

1,600

1,600

3~6

Laser Confocal

800

800

1,600

1,600

3~6

Ellipsometer

800

800

1,600

1,600

3~6

Semi Analyzer

800

800

1,600

1,600

3~6

F20 Reflectometer

800

800

1,600

1,600

3~6

其他製程

Wafer Bonder

不開放自行操作

不開放自行操作

不開放自行操作

不開放自行操作

 

RTA

800

800

1,600

1,600

3~6

 

 以上為中心每月排定課程費用

加開課程費用為原價之2
(課程人數需符合最低開課人數)

 

2025331日以前之舊制儀器訓練暨檢定收費標準請參考以下網址

 

(新制) 儀器自行操作費用列表 (自2024年9月1日起適用)


收費項目 校內/學術單位 營利機構 備註
潔淨室 3元/分 9元/分  
化學藥品使用 600元/罐 1200元/罐 丙酮
空間使用費 2400元/年 2400元/年 大置物櫃
空間使用費 1200元/年 1200元/年 小置物櫃
空間使用費 3000元/年 3000元/年 白色鐵櫃(大)
空間使用費 2000元/年 2000元/年 白色鐵櫃(小)
微影製程
Spin Coater (Multi Steps / 2 Steps )
光阻旋轉塗佈機 (多段式、兩段式)
3元/分 9元/分  
Aligner (MA8/BA8)
曝光機 (MA8/BA8)

12元/分

36元/分  
Aligner (MA6/BA6)
曝光機 (MA6/BA6)

10元/分

30元/分  
Laser Lithography (DWL2000)
雷射繪圖機
五吋光罩 5200元/片
四吋光罩 4800元/片
(價格包含審圖費及四小時操作費)

五吋光罩 10000元/片
四吋光罩 9600
元/片
(價格包含審圖費及四小時操作費)

不開放自行操作
特殊使用:
學界:75元/分;業界:150元/分
(製程需先經測試,測試流程請洽中心人員)

薄膜沉積
APCVD
常壓化學氣相沉積系統
11元/分 55元/分 (未開放使用)
LPCVD
低壓化學氣相沉積系統
11元/分 55元/分 (未開放使用)
PECVD
電漿輔助化學氣相沉積系統

12元/分

60元/分

 
E-beam Evaporator ( Metal)
電子束蒸鍍機 (金屬)

11元/分

33元/分

 
E-beam Evaporator (Oxide)
電子束蒸鍍機 (氧化物)

11元/分

33元/分

 
Sputter
濺鍍機

11元/分

33元/分

 
乾式蝕刻
ICP-RIE (Si DRIE)
電感耦合電漿蝕刻機 (矽深蝕刻)

14元/分

70元/分

 
ICP-RIE (Multi Material Etcher)
電感耦合電漿蝕刻機 (多材料蝕刻)

14元/分

70元/分

 
RIE Descum
電漿清洗機

12元/分

36元/分

 
O2 Descum
氧電漿清洗機

10元/分

30元/分

 
量測分析
SEM
掃描式電子顯微鏡

10元/分

30元/分

 
EDS
能量色散光譜儀

8元/分

24元/分

 
Sputter Coater
SEM鍍金機

10元/分

30元/分

 
P-7 Stylus Profiler
表面輪廓儀

7元/分

21元/分

 
Laser Confocal Microscope
雷射共軛聚焦顯微鏡

7元/分

21元/分

 
Ellipsometer
橢圓偏振儀

7元/分

21元/分

 
Semiconductor Analyzer
半導體參數分析儀

7元/分

21元/分

 
Film Thickness Reflectometer
 反射式膜厚分析儀

7元/分

21元/分

 
其他製程
Wafer Bonder
晶片接合機
9元/分 45元/分  不開放自行操作
Optical Microscope
光學顯微鏡
1元/分 3元/分  
Rapid Thermal Anneaing
快速退火爐

9元/分

27元/分

 

 

以上為自行操作之儀器使用費;若為委託中心人員代為操作需要「乘以」1.2(學校管理費) 

2024年8月31日以前之儀器自行操作費用請參考以下網址

 

(舊制) 儀器訓練暨檢定收費標準 (自2024年7月1日起適用) 

 收費項目 學術單位 營利機構 開課人數
  訓練 檢定 訓練 檢定  
Safety Training 300元 600元 6人開課
微影製程

MA8 Aligner

(含Spin Coater)

1,080元 1,080元 2,160元 2,160元 3~6人

MA6 Aligner

(含Spin Coater)

1,080元 1,080元 2,160元 2,160元 3~6人
Laser lithography-DWL2000 不開放自行操作 不開放自行操作 不開放自行操作 不開放自行操作  
乾式蝕刻
Samco ICP 1,080元 1,080元 2,160元 2,160元 3~6人
Oxford ICP 1,080元 1,080元 2,160元 2,160元 3~6人
RIE Descum 720元 720元 1,440元 1,440元 3~6人
O2 Plasma 720元 720元 1,440元 1,440元 3~6人
薄膜沉積
LPCVD 不開放自行操作 不開放自行操作 不開放自行操作 不開放自行操作  
APCVD 不開放自行操作 不開放自行操作 不開放自行操作 不開放自行操作  
Oxford PECVD 1,080元 1,080元 2,160元 2,160元 3~6人
E-beam Evap 720元 720元 1,440元 1,440元 3~6人
Sputter 720元 720元 1,440元 1,440元 3~6人
量測分析

SEM/EDS

(含Sputter Coater)

1,080元
*練習:540元
1,080元 2,160元
*練習:1,080元
2,160元 3~4人
P-7 Stylus Profiler 720元 720元 1,440元 1,440元 3~6人
Laser Confocal 720元 720元 1,440元 1,440元 3~6人
Ellipsometer 720元 720元 1,440元 1,440元 3~6人
Semi Analyzer 720元 720元 1,440元 1,440元 3~6人
F20 Reflectometer 720元 720元 1,440元 1,440元 3~6人
其他製程
Wafer Bonder 不開放自行操作 不開放自行操作 不開放自行操作 不開放自行操作  
RTA 720元 720元 1,440元 1,440元 3~6人

 以上為中心每月排定課程費用 。

加開課程費用為原價之2倍 。
(課程人數需符合最低開課人數)

(舊制) 儀器訓練暨檢定收費標準 (2024年6月30日以前) 

收費項目

學術單位

營利機構

開課人數

 

訓練

檢定

訓練

檢定

 

卓越大樓實驗室安全訓練

300

600

6人開課

微影製程

SUSS MA8/BA8
曝光機 MA8/BA8

+

Spin Coater

1,080

1,080

2,160

2,160

3~5

SUSS MA6/BA6
曝光機 MA6/BA6

+

Spin Coater

1,080

1,080

2,160

2,160

3~5

Laser lithography-DWL2000
雷射繪圖機

不開放自行操作

不開放自行操作

不開放自行操作

不開放自行操作

 

乾式蝕刻

Samco ICP
矽蝕刻-電感耦合電漿蝕刻機

1,080
*練習:540

1,080

2,160
*練習:1,080

2,160

3~5

Oxford ICPRIE
多材料蝕刻-電感耦合電漿蝕刻機

1,080
*練習:540

1,080

2,160
*練習:1,080

2,160

3~5

RIE Descum
反應離子蝕刻清洗機

720

720

1,440

1,440

3~5

O2 Descum
氧電漿清洗機

720

720

1,440

1,440

3~5

薄膜沉積

LPCVD
低壓化學氣相沉積系統

不開放自行操作

不開放自行操作

不開放自行操作

不開放自行操作

 

APCVD
常壓化學氣相沉積系統

不開放自行操作

不開放自行操作

不開放自行操作

不開放自行操作

 

PECVD
電漿輔助化學氣相沉積系統

1,080
*練習:540

1,080

2,160
*練習:1,080

2,160

3~5

E-Beam Metal
電子束蒸鍍機(金屬)

720

720

1,440

1,440

3~5

E-Beam Oxide
電子束蒸鍍機(氧化物)

720

720

1,440

1,440

3~5

Sputter
濺鍍機

720

720

1,440

1,440

3~5

量測分析

SEM

掃描式電子顯微鏡

+

EDS

能量色散光譜儀

+

Sputter Coater

鍍金機

1,080
*練習:540

1,080

2,160
*練習:1,080

2,160

3~5

Surface Profiler
表面輪廓儀

720

720

1,440

1,440

3~5

Laser confocal microscope
雷射共軛聚焦顯微鏡

720

720

1,440

1,440

3~5

Ellipsometer
橢圓偏振儀

720

720

1,440

1,440

3~5

Semiconductor Analyzer
半導體參數分析儀

720

720

1,440

1,440

3~5

Film Thickness Reflectometer
 
反射式膜厚分析儀

720

720

1,440

1,440

3~5

其他製程

Wafer bonder
晶片接合機

不開放自行操作

不開放自行操作

不開放自行操作

不開放自行操作

 

Rapid Thermal Anneaing
快速熱退火儀

720

720

1,440

1,440

3~5

 

以上為中心每月排定課程費用

加開課程費用為原價之2
(課程人數需符合最低開課人數)