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奈米機電系統研究中心

(舊制) 卓越 - 儀器自行操作費用列表 (2026年4月30日以前適用)

(舊制) 儀器自行操作費用列表 (自2026年4月30日以前適用)


收費項目

校內/學術單位

營利機構

備註

潔淨室

3元/分

9元/分

 

化學藥品使用

600元/罐

1200元/罐

丙酮

空間使用費

2400元/年

2400元/年

大置物櫃

空間使用費

1200元/年

1200元/年

小置物櫃

空間使用費

3000元/年

3000元/年

白色鐵櫃(大)

空間使用費

2000元/年

2000元/年

白色鐵櫃(小)

微影製程

Spin Coater (Multi Steps / 2 Steps )
光阻旋轉塗佈機 (多段式、兩段式)

3元/分

9元/分

 

Aligner (MA8/BA8)
曝光機 (MA8/BA8)

12元/分

36元/分

 

Aligner (MA6/BA6)
曝光機 (MA6/BA6)

10元/分

30元/分

 

Laser Lithography (DWL2000)
雷射繪圖機

五吋光罩 5200元/片
四吋光罩 4800元/片
(價格包含審圖費及四小時操作費)

五吋光罩 10000元/片
四吋光罩 9600元/片
(價格包含審圖費及四小時操作費)

不開放自行操作
特殊使用:
學界:75元/分;業界:150元/分
(製程需先經測試,測試流程請洽中心人員)

薄膜沉積

APCVD
常壓化學氣相沉積系統

11元/分

55元/分

(未開放使用)

LPCVD
低壓化學氣相沉積系統

11元/分

55元/分

(未開放使用)

PECVD
電漿輔助化學氣相沉積系統

12元/分

60元/分

 

E-beam Evaporator ( Metal)
電子束蒸鍍機 (金屬)

11元/分

33元/分

 

E-beam Evaporator (Oxide)
電子束蒸鍍機 (氧化物)

11元/分

33元/分

 

Sputter
濺鍍機

11元/分

33元/分

 

乾式蝕刻

ICP-RIE (Si DRIE)
電感耦合電漿蝕刻機 (矽深蝕刻)

14元/分

70元/分

 

ICP-RIE (Multi Material Etcher)
電感耦合電漿蝕刻機 (多材料蝕刻)

14元/分

70元/分

 

RIE Descum
電漿清洗機

12元/分

36元/分

 

O2 Descum
氧電漿清洗機

10元/分

30元/分

 

量測分析

SEM
掃描式電子顯微鏡

10元/分

30元/分

 

EDS
能量色散光譜儀

8元/分

24元/分

 

Sputter Coater
SEM
鍍金機

10元/分

30元/分

 

P-7 Stylus Profiler
表面輪廓儀

7元/分

21元/分

 

Laser Confocal Microscope
雷射共軛聚焦顯微鏡

7元/分

21元/分

 

Ellipsometer
橢圓偏振儀

7元/分

21元/分

 

Semiconductor Analyzer
半導體參數分析儀

7元/分

21元/分

 

Film Thickness Reflectometer
 
反射式膜厚分析儀

7元/分

21元/分

 

其他製程

Wafer Bonder
晶片接合機

9元/分

45元/分

 不開放自行操作

Optical Microscope
光學顯微鏡

1元/分

3元/分

 

Rapid Thermal Anneaing
快速退火爐

9元/分

27元/分

 

 

以上為自行操作之儀器使用費;若為委託中心人員代為操作需要「乘以」1.2(學校管理費)