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奈米機電系統研究中心

APCVD 常壓化學氣相沉積系統 - 卓越

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儀器名稱

APCVD

Tempress

用途

  • Annealing
  • Diffusion process

儀器規格

  1. Wafer size:4”
  2. Process wafer load:25

注意事項

     暫不啟用。