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O2 Plasma(氧電漿清洗機)-卓越大樓

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奈米機電系統研究中心(半導體製程重點技術平台)

O2 Plasma(氧電漿清洗機)-卓越大樓

		儀器名稱	氧電漿清洗機
		用途	樣品表面清潔與改質。
儀器規格	l 載台大小 : 4”晶圓 l 最高能量 : 200W l 最大進氣量 : 100SCCM
注意事項	只有已通過訓練及檢定之使用者允許操作本儀器。
使用說明書	l 使用者手冊 l User manual
儀器課程名稱	l [CRE] O2 Plasma

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No. 1, Sec. 4, Roosevelt Rd., Taipei 10617, Taiwan (R.O.C.)

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更新日期

2024-11-22