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奈米機電系統研究中心

E-beam (Metal, Oxide) 電子束蒸鍍機(金屬、氧化物)-卓越大樓

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儀器名稱

電子束蒸鍍機

用途

以電子束加熱靶材,使材料熔解並氣化,氣態薄膜材料移動到基板上形成固體薄膜。

儀器規格

  • 坩堝尺寸:上直徑3.7公分,下直徑2.8公分,高1.75公分,壁厚0.35公分,底厚1公分
  • 基板尺寸:4”wafer ╳ 8個
  • 石英振盪片:鍍金,6MHZ

注意事項

  1. 只有已通過訓練及檢定之使用者允許操作本儀器。
  2. 金屬與氧化物之材料分別在專屬機台中使用,請依需求預約相應之機台。
  3. 請自備靶材、坩堝。
  4. 鍍膜超過7500Å,請自備石英振盪片。
  5. 坩堝中放置材料請加至八分滿。

使用手冊

儀器課程名稱
  • [CRE] E-beam Evap