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奈米機電系統研究中心

光阻旋轉塗佈機 (多段式、兩段式)-卓越大樓

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儀器名稱

光阻旋轉塗佈機 (多段式、兩段式)

用途

旋轉塗佈為利用轉盤高速旋轉離心力,將基材上的塗料進行厚度均勻化的製程,主要係將光阻劑塗佈在基材上。

儀器規格

  • 外觀材質:PP 板組合焊接而成,可以耐酸鹼侵蝕
  • 操作盆罩:SUS制,圓盆型設計
  • 控制台:按鍵旋鈕式
  • 吸盤規格:一組鋁制吸盤精密研模陽極保護
  • 操作方式:手動直接輸入
  • 入料方式:手動給料
  • 液體種類:光阻劑、溶劑
  • 馬達:AC Servo Motor (轉速:10 ~ 5000 RPM)含真空幫浦(附 PP 防塵外罩)
  • 真空表頭:二組視窗,可顯示設定值與實際值
  • 配方模組:100組配方設定
  • 段方步序:每一配方模組均設30段步序

注意事項

  1. 只有已通過訓練及檢定之使用者允許操作本儀器。
  2. 因光阻為有機溶劑,操作請戴上耐酸鹼手套。
  3. 1.1 尺寸限制。
  4. 二段 spin coater:破片。
  5. 多段 spin coater:破片,2吋~8 吋晶圓。
  6. 如破片小於 1.5cm*1.5cm 請自備 blue tape 以防止光阻流入幫浦。

使用說明書