奈米機電系統研究中心

儀器名稱

光阻旋轉塗佈機 (多段式、兩段式)

用途

旋轉塗佈為利用轉盤高速旋轉離心力，將基材上的塗料進行厚度均勻化的製程，主要係將光阻劑塗佈在基材上。

儀器規格

• 外觀材質：PP 板組合焊接而成，可以耐酸鹼侵蝕
• 操作盆罩：SUS制，圓盆型設計
• 控制台：按鍵旋鈕式
• 吸盤規格：一組鋁制吸盤精密研模陽極保護
• 操作方式：手動直接輸入
• 入料方式：手動給料
• 液體種類：光阻劑、溶劑
• 馬達：AC Servo Motor (轉速：10 ~ 5000 RPM)含真空幫浦(附 PP 防塵外罩)
• 真空表頭：二組視窗，可顯示設定值與實際值
• 配方模組：100組配方設定
• 段方步序：每一配方模組均設30段步序

注意事項

1. 只有已通過訓練及檢定之使用者允許操作本儀器。
2. 因光阻為有機溶劑,操作請戴上耐酸鹼手套。
3. 1.1 尺寸限制。
4. 二段 spin coater：破片。
5. 多段 spin coater：破片,2吋~8 吋晶圓。
6. 如破片小於 1.5cm*1.5cm 請自備 blue tape 以防止光阻流入幫浦。

使用說明書

• 使用者手冊
• User manual