奈米機電系統研究中心

儀器名稱

雷射繪圖機

Heidelberg / DWL 2000

用途

利用強度可變的雷射束對基片表面的光阻曝光，顯影后在光阻層形成所要的設計圖形。

儀器規格

• 最大放置基板：9” ×  9”
• 直寫最大區域：20 × 20 cm2
• 基板厚度：0-7 μm
• 直寫最小線寬：0.8 μm
• 最高直寫速度：1.1 cm2/min
• 位移解析度：10nm
• 可執行灰階直寫。

注意事項

1. 只開放代工。
2. 如需製作直寫或灰階，須先進行測試製程，詳細測試內容請洽中心人員。
3. 只開放正光阻之直寫。