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奈米機電系統研究中心

大氣電漿清洗機-應力

儀器名稱

大氣電漿清洗機
Harrick Plasma / PDC-001

儀器圖片

用途

在大氣環境下產生電漿,對產品表面進行處理。

儀器規格

  • 真空度:最低可到 200m Torr
  • 基材尺寸:最大可放 4” wafer ╳ 1 個
  • 腔體:一體成型 6" 直徑 × 6.5" 長度 Pyrex 容器
  • 功率:Low (6.8 W)、Medium (10.5 W)、High (18 W)

注意事項

  1. 只有已通過檢定之使用者允許操作本儀器。
  2. 可觀看教學影片後,直接報名檢定課程。

使用說明書

儀器課程名稱

  • [IAM] Furnace+Air Plasma