奈米機電系統研究中心

儀器名稱

化學清洗槽

用途

提供安全之作業環境,以利化學藥品之處理與使用。

儀器規格

• HF/酸/鹼化學清洗槽：
  • 電源：110 V*2、220V*2
  • 本體材質：SIMONA PP 10 mm 象牙白抗靜電板
  • 拉門：CLEAR PVC 8 mm
  • 回收暫存桶：槽體下方依分類存放
• 有機化學清洗槽：
  • 電源：110 V*2、220V*2
  • 本體材質：SUS304 1.5mm不銹鋼板
  • 拉門：防爆玻璃 8 mm
  • 回收暫存桶：槽體下方依分類存放
• 共同尺寸：
  • 本體尺寸：2700W x 900D x 2200H mm
  • DI gun(白色)：TEFLON 材質
  • N2 gun(黑色)：TEFLON 材質
  • 清洗槽：500W x 400D x 250H mm
  • 黃光室：鹼*1 有機*1
  • 蝕刻室：酸*1 鹼*1

注意事項

1. 操作請戴上耐酸鹼手套。
2. 請依標示，使用漏斗小心地將使用廢液倒入槽體下方之回收暫存桶。
3. 濕蝕刻槽純水開關請使用槽外開關，請勿使用槽內純水開關。
4. 濕蝕刻槽下方有加熱板可使用，使用完請放回蝕刻槽下方。
5. 水槍與氣槍使用後請關至最小刻度。