| 收費項目 |
學術單位 |
營利機構 |
備註 |
| 潔淨室 |
3元/分 |
6元/分 |
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| 微影製程 |
Spin Coater (Multi Steps / 2 Steps)
光阻旋轉塗佈機 (多段式、兩段式) |
100+6元/分
(即開機費100元) |
200+12元/分
(即開機費200元) |
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Aligner (EVG)
曝光機 (EVG) |
600+18元/分
(即開機費600元) |
1,200+36元/分
(即開機費1200元) |
精度1um |
Aligner (MA6/BA6)
曝光機 (MA6) |
600+18元/分
(即開機費600元) |
1,200+36元/分
(即開機費1200元) |
精度2um |
| 乾式蝕刻 |
O2 Plasma
氧電漿清洗機 |
3元/分 |
6元/分 |
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| 薄膜沉積 |
E-beam Evaporator
電子束蒸鍍機 |
30分鐘內1,040元;
超過30分鐘:1,040+12元/分 |
30分鐘內2,080元;
超過30分鐘:2,080+24元/分 |
不足30分鐘以30分鐘計算。 |
Sputter
濺鍍機 |
30分鐘內520元;
超過30分鐘:520+15元/分 |
30分鐘內1,040元;
超過30分鐘:1,040+30元/分 |
不足30分鐘以30分鐘計算。 |
Parylene Deposition System
聚對二甲基苯沉積系統 |
90分鐘內1000元；
超過90分鐘：1000+4元/分 |
90分鐘內2,000元；
超過90分鐘：2,000+8元/分 |
不足90分鐘以90分鐘計算。 |
| 量測分析 |
Probe-Type Surface Analyser
探針式表面分析儀 |
12元/分 |
24元/分 |
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| 其他製程 |
Sand-blaster
噴砂機 |
每30分鐘150元 |
每30分鐘300元 |
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Box Furnace
高溫爐 |
5元/分 |
10元/分 |
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Dicing Saw
晶圓切割機 |
30分鐘內520元;
超過30分鐘:520+15元/分
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30分鐘內1040元
超過30分鐘:1040+30元/分
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不足30分鐘以30分鐘計算。 |