國立臺灣大學工學院暨電機資訊學院奈米機電系統研究中心

卓越大樓無塵室設備收費標準

(最新優惠價)儀器訓練暨檢定收費標準(2019年4月1日起適用)

收費項目	學術單位		營利機構		備註
	訓練	檢定	訓練	檢定
卓越大樓實驗室安全訓練	優惠期間，不收費		優惠期間，不收費		10人開課
黃光室
Spin Coater	720元	720元	1,440元	1,440元	2人~5人
(多段式、兩段式光阻旋轉塗佈機)
Karl Suss Aligner MA8	720元	720元	1,440元	1,440元	2人~5人
(6吋單面對準曝光機)
Karl Suss Aligner MA6	720元	720元	1,440元	1,440元	2人~5人
(雙面對準曝光機)
Substrate Bonder	720元	720元	1,440元	1,440元	2人~5人
(晶片接合機)
Laser Pattern Generator	不開放自行操作	不開放自行操作	不開放自行操作	不開放自行操作
(雷射光罩製作系統)
爐管區
APCVD	不開放自行操作	不開放自行操作	不開放自行操作	不開放自行操作
LPCVD	不開放自行操作	不開放自行操作	不開放自行操作	不開放自行操作
PECVD	720元	720元	1,440元	1,440元	2人~5人
(電漿輔助化學氣相沉積系統)
蝕刻區
矽蝕刻-電感耦合電漿蝕刻機	720元	720元	1,440元	1,440元	2人~5人
ICP-RIE(SAMCO)
多材料蝕刻-電感耦合電漿蝕刻機	720元	720元	1,440元	1,440元	2人~5人
ICP-RIE(Oxford)
RIE(反應離子蝕刻機)	720元	720元	1,440元	1,440元	2人~5人
RIE(Oxford)
RIE介電材料	720元	720元	1,440元	1,440元	2人~5人
RIE光阻材料	720元	720元	1,440元	1,440元	2人~5人
RTA(快速退火爐)	720元	720元	1,440元	1,440元	2人~5人
薄膜區
E-beam Evaporator Metal major	720元	720元	1,440元	1,440元	2人~5人
(電子束蒸鍍機-金屬)
E-beam Evaporator Oxide major	720元	720元	1,440元	1,440元	2人~5人
(電子束蒸鍍機-氧化物)
Sputter(射頻濺鍍機)	720元	720元	1,440元	1,440元	2人~5人
分析區
SEM(掃描式電子顯微鏡)	720元	720元	1,440元	1,440元	2人~5人
EDS	720元	720元	1,440元	1,440元	2人~5人
Sputter Coater(SEM鍍金機)	720元	720元	1,440元	1,440元	2人~5人
表面輪廓儀	720元	720元	1,440元	1,440元	2人~5人
雷射共軛聚焦顯微鏡	720元	720元	1,440元	1,440元	2人~5人
橢圓儀	720元	720元	1,440元	1,440元	2人~5人
半導體參數分析儀	720元	720元	1,440元	1,440元	2人~5人

以上為中心每月排定課程費用；若為其他時段之加開課程需加16.7%(課程人數需符合中心最低開課人數之規定)

儀器使用費列表 (原價)

(最新優惠價)儀器自行操作列表(2019年6月1日起適用)

收費項目	校內/學術單位	營利機構	備註
潔淨室	3元/分	6元/分
黃光區
Spin Coater	3元/分	6元/分
(多段式、兩段式光阻旋轉塗佈機)
Karl Suss Aligner MA8	420(前30分鐘不計費)+11元/分	840+22元/分
(6吋單面對準曝光機)	(即開機費420元)	(即開機費840元)
Karl Suss Aligner MA6	350(前30分鐘不計費)+9元/分	700(前30分鐘不計費)+18元/分
(雙面對準曝光機)	(即開機費350元)	(即開機費700元)
Substrate Bonder	60分鐘內510元;	60分鐘內1,020元;
(晶片接合機)	超過60分鐘:510+6元/分	超過60分鐘:1,020+12元/分
Laser Pattern Generator	8,400元六吋	16,800元六吋	特殊使用:
(雷射光罩製作系統)	6,000元五吋	12,000元五吋	學界:250元/分；業界:500元/分
	5,400元四吋	10,800元四吋
	600元(審圖費/小時)	1,200元(審圖費/小時)
爐管區
APCVD	1,000+18-20元/分(即開機費1,000元；依材料)	2,000+36-40元/分(即開機費2,000元；依材料)	(未開放使用)
LPCVD	1,000+18-36元/分(即開機費1,000元；依材料)	2,000+36-72元/分(即開機費2,000元；依材料)	(未開放使用)
PECVD	600+30元/分	1,200+60元/分
(電漿輔助化學氣相沉積系統)	(即開機費600元)	(即開機費1,200元)
蝕刻區
矽蝕刻-電感耦合電漿蝕刻機	240(前5分鐘免費)+72元/分	480(前5分鐘免費)+144元/分
ICP-RIE(SAMCO)	(即開機費240元)	(即開機費480元)
多材料蝕刻-電感耦合電漿蝕刻機	240(前5分鐘免費)+72元/分	480(前5分鐘免費)+144元/分
ICP-RIE(Oxford)	(即開機費240元)	(即開機費480元)
RIE(反應離子蝕刻機)	240+72元/分	480+144元/分
RIE(Oxford)	(即開機費240元)	(即開機費480元)
RIE介電材料	200+30元/分	400+60元/分
	(即開機費200元)	(即開機費400元)
RIE光阻材料	240+36元/分	480+72元/分
	(即開機費240元)	(即開機費480元)
RTA(快速退火爐)	120分鐘內900元；超過120分鐘:900+6元/分	120分鐘內1,800元；超過120分鐘:1,800+12元/分
薄膜區
E-beam Evaporator Metal major	抽真空不計費，電子束開啟30分鐘內520元;	抽真空不計費，電子束開啟30分鐘內1,040元;
(電子束蒸鍍機-金屬)	超過30分鐘: 520+6元/分	超過30分鐘: 1,040+12元/分
E-beam Evaporator Oxide major	抽真空不計費，電子束開啟30分鐘內520元;	抽真空不計費，電子束開啟30分鐘內1,040元;
(電子束蒸鍍機-氧化物)	超過30分鐘: 520+6元/分	超過30分鐘: 1,040+12元/分
Sputter(射頻濺鍍機)	抽真空不計費，電漿開啟30分鐘內520元;	抽真空不計費，電漿開啟30分鐘內1,040元;
	超過30分鐘: 520+15元/分	超過30分鐘: 1,040+30元/分
分析區
SEM(掃描式電子顯微鏡)	60分鐘內720元;超過60分鐘:720+360元/30分	60分鐘內1,440元;超過60分鐘:1,440+720元/30分	不足30分鐘以30分鐘計算
EDS	240元/30分	480元/30分	不足30分鐘以30分鐘計算
Sputter Coater(SEM鍍金機)	300元/30分	600元/30分	不足30分鐘以30分鐘計算
表面輪廓儀	7元/分	14元/分
雷射共軛聚焦顯微鏡	7元/分	14元/分
橢圓儀	7元/分	14元/分
半導體參數分析儀	7元/分	14元/分

以上為自行操作之儀器使用費；若為委託中心人員代為操作需要「乘以」1.2(學校管理費)