儀器訓練暨檢定收費標準(原價)
(最新優惠價)儀器訓練暨檢定收費標準(2019年4月1日起適用)
收費項目 |
學術單位 |
營利機構 |
備註 |
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訓練 |
檢定 |
訓練 |
檢定 |
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卓越大樓實驗室安全訓練 |
優惠期間，不收費 |
優惠期間，不收費 |
10人開課 |
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黃光室 |
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Spin Coater |
720元 |
720元 |
1,440元 |
1,440元 |
2人~5人 |
(多段式、兩段式光阻旋轉塗佈機) |
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Karl Suss Aligner MA8 |
720元 |
720元 |
1,440元 |
1,440元 |
2人~5人 |
(6吋單面對準曝光機) |
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Karl Suss Aligner MA6 |
720元 |
720元 |
1,440元 |
1,440元 |
2人~5人 |
(雙面對準曝光機) |
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Substrate Bonder |
720元 |
720元 |
1,440元 |
1,440元 |
2人~5人 |
(晶片接合機) |
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Laser Pattern Generator |
不開放自行操作 |
不開放自行操作 |
不開放自行操作 |
不開放自行操作 |
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(雷射光罩製作系統) |
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爐管區 |
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APCVD |
不開放自行操作 |
不開放自行操作 |
不開放自行操作 |
不開放自行操作 |
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LPCVD |
不開放自行操作 |
不開放自行操作 |
不開放自行操作 |
不開放自行操作 |
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PECVD |
720元 |
720元 |
1,440元 |
1,440元 |
2人~5人 |
(電漿輔助化學氣相沉積系統) |
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蝕刻區 |
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矽蝕刻-電感耦合電漿蝕刻機 |
720元 |
720元 |
1,440元 |
1,440元 |
2人~5人 |
ICP-RIE(SAMCO) |
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多材料蝕刻-電感耦合電漿蝕刻機 |
720元 |
720元 |
1,440元 |
1,440元 |
2人~5人 |
ICP-RIE(Oxford) |
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RIE(反應離子蝕刻機) |
720元 |
720元 |
1,440元 |
1,440元 |
2人~5人 |
RIE(Oxford) |
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RIE介電材料 |
720元 |
720元 |
1,440元 |
1,440元 |
2人~5人 |
RIE光阻材料 |
720元 |
720元 |
1,440元 |
1,440元 |
2人~5人 |
RTA(快速退火爐) |
720元 |
720元 |
1,440元 |
1,440元 |
2人~5人 |
薄膜區 |
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E-beam Evaporator Metal major |
720元 |
720元 |
1,440元 |
1,440元 |
2人~5人 |
(電子束蒸鍍機-金屬) |
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E-beam Evaporator Oxide major |
720元 |
720元 |
1,440元 |
1,440元 |
2人~5人 |
(電子束蒸鍍機-氧化物) |
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Sputter(射頻濺鍍機) |
720元 |
720元 |
1,440元 |
1,440元 |
2人~5人 |
分析區 |
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SEM(掃描式電子顯微鏡) |
720元 |
720元 |
1,440元 |
1,440元 |
2人~5人 |
EDS |
720元 |
720元 |
1,440元 |
1,440元 |
2人~5人 |
Sputter Coater(SEM鍍金機) |
720元 |
720元 |
1,440元 |
1,440元 |
2人~5人 |
表面輪廓儀 |
720元 |
720元 |
1,440元 |
1,440元 |
2人~5人 |
雷射共軛聚焦顯微鏡 |
720元 |
720元 |
1,440元 |
1,440元 |
2人~5人 |
橢圓儀 |
720元 |
720元 |
1,440元 |
1,440元 |
2人~5人 |
半導體參數分析儀 |
720元 |
720元 |
1,440元 |
1,440元 |
2人~5人 |
(最新優惠價)儀器使用費列表(2019年6月1日起適用)
| 收費項目 | 校內/學術單位 | 營利機構 | 備註 | |
| 潔淨室 | 3元/分 | 6元/分 | ||
| 黃光區 | ||||
| Spin Coater | 3元/分 | 6元/分 | ||
| (多段式、兩段式光阻旋轉塗佈機) | ||||
| Karl Suss Aligner MA8 | 420(前30分鐘不計費)+11元/分 | 840+22元/分 | ||
| (6吋單面對準曝光機) | (即開機費420元) | (即開機費840元) | ||
| Karl Suss Aligner MA6 | 350(前30分鐘不計費)+9元/分 | 700(前30分鐘不計費)+18元/分 | ||
| (雙面對準曝光機) | (即開機費350元) | (即開機費700元) | ||
| Substrate Bonder | 60分鐘內510元; | 60分鐘內1,020元; | ||
| (晶片接合機) | 超過60分鐘:510+6元/分 | 超過60分鐘:1,020+12元/分 | ||
| Laser Pattern Generator | 8,400元 六吋 | 16,800元 六吋 | 特殊使用: | |
| (雷射光罩製作系統) | 6,000元 五吋 | 12,000元 五吋 | 學界:250元/分；業界:500元/分 | |
| 5,400元 四吋 | 10,800元 四吋 | |||
| 600元(審圖費/小時) | 1,200元(審圖費/小時) | |||
| 爐管區 | ||||
| APCVD | 1,000+18-20元/分(即開機費1,000元；依材料) | 2,000+36-40元/分(即開機費2,000元；依材料) | (未開放使用) | |
| LPCVD | 1,000+18-36元/分(即開機費1,000元；依材料) | 2,000+36-72元/分(即開機費2,000元；依材料) | (未開放使用) | |
| PECVD | 600+30元/分 | 1,200+60元/分 | ||
| (電漿輔助化學氣相沉積系統) | (即開機費600元) | (即開機費1,200元) | ||
| 蝕刻區 | ||||
| 矽蝕刻-電感耦合電漿蝕刻機 | 240(前5分鐘免費)+72元/分 | 480(前5分鐘免費)+144元/分 | ||
| ICP-RIE(SAMCO) | (即開機費240元) | (即開機費480元) | ||
| 多材料蝕刻-電感耦合電漿蝕刻機 | 240(前5分鐘免費)+72元/分 | 480(前5分鐘免費)+144元/分 | ||
| ICP-RIE(Oxford) | (即開機費240元) | (即開機費480元) | ||
| RIE(反應離子蝕刻機) | 240+36元/分 | 480+72元/分 | ||
| RIE(Oxford) | (即開機費240元) | (即開機費480元) | ||
| RIE介電材料 | 200+30元/分 | 400+60元/分 | ||
| (即開機費200元) | (即開機費400元) | |||
| RIE光阻材料 | 240+36元/分 | 480+72元/分 | ||
| (即開機費240元) | (即開機費480元) | |||
| RTA(快速退火爐) | 120分鐘內900元；超過120分鐘:900+6元/分 | 120分鐘內1,800元；超過120分鐘:1,800+12元/分 | ||
| 薄膜區 | ||||
| E-beam Evaporator Metal major | 抽真空不計費，電子束開啟30分鐘內520元; | 抽真空不計費，電子束開啟30分鐘內1,040元; | ||
| (電子束蒸鍍機-金屬) | 超過30分鐘: 520+6元/分 | 超過30分鐘: 1,040+12元/分 | ||
| E-beam Evaporator Oxide major | 抽真空不計費，電子束開啟30分鐘內520元; | 抽真空不計費，電子束開啟30分鐘內1,040元; | ||
| (電子束蒸鍍機-氧化物) | 超過30分鐘: 520+6元/分 | 超過30分鐘: 1,040+12元/分 | ||
| Sputter(射頻濺鍍機) | 抽真空不計費，電漿開啟30分鐘內520元; | 抽真空不計費，電漿開啟30分鐘內1,040元; | ||
| 超過30分鐘: 520+15元/分 | 超過30分鐘: 1,040+30元/分 | |||
| 分析區 | ||||
| SEM(掃描式電子顯微鏡) | 60分鐘內720元;超過60分鐘:720+360元/30分 | 60分鐘內1,440元;超過60分鐘:1,440+720元/30分 | 不足30分鐘以30分鐘計算 | |
| EDS | 240元/30分 | 480元/30分 | 不足30分鐘以30分鐘計算 | |
| Sputter Coater(SEM鍍金機) | 300元/30分 | 600元/30分 | 不足30分鐘以30分鐘計算 | |
| 表面輪廓儀 | 7元/分 | 14元/分 | ||
| 雷射共軛聚焦顯微鏡 | 7元/分 | 14元/分 | ||
| 橢圓儀 | 7元/分 | 14元/分 | ||
| 半導體參數分析儀 | 7元/分 | 14元/分 | ||