卓越大樓無塵室設備收費標準

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  儀器訓練暨檢定收費標準(原價)

(最新優惠價)儀器訓練暨檢定收費標準(2018年2月1日起適用) 

                      收費項目
         學術單位
         營利機構
   備註
 
訓練
檢定
訓練
檢定
 
無塵室一般訓練 
300元
600元
10人開課
                                                  黃光室
Spin Coater
600元
600元
1,200元
1,200元
3人~5人
(多段式、兩段式光阻旋轉塗佈機)
Karl Suss Aligner MA8
600元
600元
1,200元
1,200元
3人~5人
(6吋單面對準曝光機)
Karl Suss Aligner MA6
600元
600元
1,200元
1,200元
3人~5人
(雙面對準曝光機)
Substrate Bonder
600元
600元
1,200元
1,200元
3人~5人
(晶片接合機)
Laser Pattern Generator
不開放自行操作
不開放自行操作
不開放自行操作
不開放自行操作
 
(雷射光罩製作系統)
                                                      爐管區
APCVD
不開放自行操作
不開放自行操作
不開放自行操作
不開放自行操作
3人~5人
LPCVD
不開放自行操作
不開放自行操作
不開放自行操作
不開放自行操作
3人~5人
PECVD 
600元
600元
1,200元
1,200元
3人~5人
(電漿輔助化學氣相沉積系統)
                                                 蝕刻區
矽蝕刻-電感耦合電漿蝕刻機
600元
600元
1,200元
1,200元
3人~5人
ICP-RIE(SAMCO)
多材料蝕刻-電感耦合電漿蝕刻機
600元
600元
1,200元
1,200元
3人~5人
ICP-RIE(Oxford)
RIE(反應離子蝕刻機)
600元
600元
1,200元
1,200元
3人~5人
RIE(Oxford)
RIE介電材料
600元
600元
1,200元
1,200元
3人~5人
RIE光阻材料
600元
600元
1,200元
1,200元
3人~5人
RTA(快速退火爐)
600元
600元
1,200元
1,200元
3人~5人
                                                  薄膜區
E-beam Evaporator Metal major
600元
600元
1,200元
1,200元
3人~5人
(電子束蒸鍍機-金屬)
E-beam Evaporator Oxide major
600元
600元
1,200元
1,200元
3人~5人
(電子束蒸鍍機-氧化物)
Sputter(射頻濺鍍機) 
600元
600元
1,200元
1,200元
3人~5人
                                                 分析區
SEM(掃描式電子顯微鏡)
600元
600元
1,200元
1,200元
3人~5人
EDS
600元
600元
1,200元
1,200元
3人~5人
Sputter Coater(SEM鍍金機)
600元
600元
1,200元
1,200元
3人~5人
表面輪廓儀
600元
600元
1,200元
1,200元
3人~5人
雷射共軛聚焦顯微鏡
600元
600元
1,200元
1,200元
3人~5人
橢圓儀
600元
600元
1,200元
1,200元
3人~5人
半導體參數分析儀
600元
600元
1,200元
1,200元
3人~5人

 

 

 

 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
儀器使用費列表 (原價)
(最新優惠價)儀器使用費列表(2018年2月1日起適用) 
收費項目 校內學術單位 營利機構 備註
潔淨室 3元/ 6元/  
黃光區
Spin Coater 3/ 6/  
(多段式、兩段式光阻旋轉塗佈機)
Karl Suss Aligner MA8 350(30分鐘不計費)+9/ 700+18/  
(6吋單面對準曝光機) (即開機費350) (即開機費700)
Karl Suss Aligner MA6 350(30分鐘不計費)+9/ 700+18/  
(雙面對準曝光機) (即開機費350) (即開機費700)
Substrate Bonder 60分鐘內425; 60分鐘內850;  
(晶片接合機) 超過60分鐘:425+5/ 超過60分鐘:850+10/
Laser Pattern Generator 7000 六吋 14,000 六吋  
(雷射光罩製作系統) 5000 五吋 10,000 五吋  
  4500 四吋 9,000 四吋
  500(審圖費/小時) 1,000(審圖費/小時)  
爐管區
APCVD 1,000+18-20/(即開機費1,000元;依材料) 2,000+36-40/(即開機費2,000元;依材料) (未開放使用)
LPCVD 1,000+18-36/(即開機費1,000元;依材料) 2,000+36-72/(即開機費2,000元;依材料) (未開放使用)
PECVD  500+25/ 1,000+50/  
(電漿輔助化學氣相沉積系統)  (即開機費500)  (即開機費1,000)
蝕刻區
矽蝕刻-電感耦合電漿蝕刻機 200(5分鐘免費)+60/ 400(5分鐘免費)+120/  
ICP-RIE(SAMCO)  (即開機費200)  (即開機費400)  
多材料蝕刻-電感耦合電漿蝕刻機 200+30/ 400+60/  
ICP-RIE(Oxford)  (即開機費200)  (即開機費400)  
RIE(反應離子蝕刻機) 200+30/ 400+60/  
RIE(Oxford)  (即開機費200)  (即開機費400)  
RIE介電材料 200+30/ 400+60/  
 (即開機費200)  (即開機費400)  
RIE光阻材料 200+30/ 400+60/  
 (即開機費200)  (即開機費400)  
RTA(快速退火爐) 120分鐘內750元;超過120分鐘:750+5/ 120分鐘內1,500元;超過120分鐘:1,500+10/  
薄膜區
E-beam Evaporator Metal major 抽真空不計費,電子束開啟30分鐘內520; 抽真空不計費,電子束開啟30分鐘內1,040;  
(電子束蒸鍍機-金屬) 超過30分鐘: 520+6/ 超過30分鐘: 1,040+12/  
E-beam Evaporator Oxide major 抽真空不計費,電子束開啟30分鐘內520; 抽真空不計費,電子束開啟30分鐘內1,040;  
(電子束蒸鍍機-氧化物) 超過30分鐘: 520+6/ 超過30分鐘: 1,040+12/  
Sputter(射頻濺鍍機)  抽真空不計費,電漿開啟30分鐘內520; 抽真空不計費,電漿開啟30分鐘內1,040;  
超過30分鐘: 520+15/ 超過30分鐘: 1,040+30/  
分析區
SEM(掃描式電子顯微鏡) 60分鐘內600;超過60分鐘:600+300/30 60分鐘內1,200;超過60分鐘:1,200+600/30  
EDS 200/30 400/30  
Sputter Coater(SEM鍍金機) 250/30 500/30  
表面輪廓儀 6/ 12/  
雷射共軛聚焦顯微鏡 6/ 12/  
橢圓儀 6/ 12/  
半導體參數分析儀 6/ 12/