儀器訓練暨檢定收費標準(原價)
(最新優惠價)儀器訓練暨檢定收費標準(2019年4月1日起適用)
收費項目 |
學術單位 |
營利機構 |
備註 |
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訓練 |
檢定 |
訓練 |
檢定 |
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卓越大樓實驗室安全訓練 |
優惠期間,不收費 |
優惠期間,不收費 |
10人開課 |
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黃光室 |
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Spin Coater |
720元 |
720元 |
1,440元 |
1,440元 |
2人~5人 |
(多段式、兩段式光阻旋轉塗佈機) |
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Karl Suss Aligner MA8 |
720元 |
720元 |
1,440元 |
1,440元 |
2人~5人 |
(6吋單面對準曝光機) |
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Karl Suss Aligner MA6 |
720元 |
720元 |
1,440元 |
1,440元 |
2人~5人 |
(雙面對準曝光機) |
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Substrate Bonder |
720元 |
720元 |
1,440元 |
1,440元 |
2人~5人 |
(晶片接合機) |
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Laser Pattern Generator |
不開放自行操作 |
不開放自行操作 |
不開放自行操作 |
不開放自行操作 |
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(雷射光罩製作系統) |
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爐管區 |
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APCVD |
不開放自行操作 |
不開放自行操作 |
不開放自行操作 |
不開放自行操作 |
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LPCVD |
不開放自行操作 |
不開放自行操作 |
不開放自行操作 |
不開放自行操作 |
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PECVD |
1,080元 |
1,080元 |
2,160元 |
2,160元 |
2人~5人 |
(電漿輔助化學氣相沉積系統) |
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蝕刻區 |
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矽蝕刻-電感耦合電漿蝕刻機 |
1,080元 |
1,080元 |
2,160元 |
2,160元 |
2人~5人 |
ICP-RIE(SAMCO) |
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多材料蝕刻-電感耦合電漿蝕刻機 |
1,080元 |
1,080元 |
2,160元 |
2,160元 |
2人~5人 |
ICP-RIE(Oxford) |
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RIE(反應離子蝕刻機) |
1,080元 |
1,080元 |
2,160元 |
2,160元 |
2人~5人 |
RIE(Oxford) |
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RIE介電材料 |
720元 |
720元 |
1,440元 |
1,440元 |
2人~5人 |
RIE光阻材料 |
720元 |
720元 |
1,440元 |
1,440元 |
2人~5人 |
RTA(快速退火爐) |
720元 |
720元 |
1,440元 |
1,440元 |
2人~5人 |
薄膜區 |
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E-beam Evaporator Metal major |
720元 |
720元 |
1,440元 |
1,440元 |
2人~5人 |
(電子束蒸鍍機-金屬) |
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E-beam Evaporator Oxide major |
720元 |
720元 |
1,440元 |
1,440元 |
2人~5人 |
(電子束蒸鍍機-氧化物) |
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Sputter(射頻濺鍍機) |
720元 |
720元 |
1,440元 |
1,440元 |
2人~5人 |
分析區 |
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SEM(掃描式電子顯微鏡) |
1,080元 |
1,080元 |
2,160元 |
2,160元 |
2人~5人 |
EDS |
1,080元 |
1,080元 |
2,160元 |
2,160元 |
2人~5人 |
Sputter Coater(SEM鍍金機) |
720元 |
720元 |
1,440元 |
1,440元 |
2人~5人 |
表面輪廓儀 |
720元 |
720元 |
1,440元 |
1,440元 |
2人~5人 |
雷射共軛聚焦顯微鏡 |
720元 |
720元 |
1,440元 |
1,440元 |
2人~5人 |
橢圓儀 |
720元 |
720元 |
1,440元 |
1,440元 |
2人~5人 |
半導體參數分析儀 |
720元 |
720元 |
1,440元 |
1,440元 |
2人~5人 |
以上為中心每月排定課程費用;若為其他時段之加開課程需加16.7%(課程人數需符合中心最低開課人數之規定)
收費項目 |
校內/學術單位 |
營利機構 |
備註 |
潔淨室 |
3元/分 |
6元/分 |
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化學藥品使用 |
600元/次 |
1200元/次 |
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黃光區 |
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Spin Coater |
3元/分 |
6元/分 |
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(多段式、兩段式光阻旋轉塗佈機) |
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Karl Suss Aligner MA8 |
420(前30分鐘不計費)+11元/分 |
840+22元/分 |
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(6吋單面對準曝光機) |
(即開機費420元) |
(即開機費840元) |
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Karl Suss Aligner MA6 |
350(前30分鐘不計費)+9元/分 |
700(前30分鐘不計費)+18元/分 |
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(雙面對準曝光機) |
(即開機費350元) |
(即開機費700元) |
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Substrate Bonder |
60分鐘內510元; |
60分鐘內1,020元; |
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(晶片接合機) |
超過60分鐘:510+6元/分 |
超過60分鐘:1,020+12元/分 |
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Laser Pattern Generator |
8,400元 六吋 |
16,800元 六吋 |
特殊使用: |
(雷射光罩製作系統) |
6,000元 五吋 |
12,000元 五吋 |
學界:250元/分;業界:500元/分 |
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5,400元 四吋 |
10,800元 四吋 |
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600元(審圖費/小時) |
1,200元(審圖費/小時) |
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爐管區 |
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APCVD |
1,000+18-20元/分(即開機費1,000元;依材料) |
2,000+36-40元/分(即開機費2,000元;依材料) |
(未開放使用) |
LPCVD |
1,000+18-36元/分(即開機費1,000元;依材料) |
2,000+36-72元/分(即開機費2,000元;依材料) |
(未開放使用) |
PECVD |
600+30元/分 |
1,200+60元/分 |
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(電漿輔助化學氣相沉積系統) |
(即開機費600元) |
(即開機費1,200元) |
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蝕刻區 |
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矽蝕刻-電感耦合電漿蝕刻機 |
240(前5分鐘免費)+72元/分 |
480(前5分鐘免費)+144元/分 |
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ICP-RIE(SAMCO) |
(即開機費240元) |
(即開機費480元) |
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多材料蝕刻-電感耦合電漿蝕刻機 |
240(前5分鐘免費)+72元/分 |
480(前5分鐘免費)+144元/分 |
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ICP-RIE(Oxford) |
(即開機費240元) |
(即開機費480元) |
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RIE(反應離子蝕刻機) |
240+72元/分 |
480+144元/分 |
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RIE(Oxford) |
(即開機費240元) |
(即開機費480元) |
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RIE介電材料 |
200+30元/分 |
400+60元/分 |
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(即開機費200元) |
(即開機費400元) |
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RIE光阻材料 |
240+36元/分 |
480+72元/分 |
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(即開機費240元) |
(即開機費480元) |
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RTA(快速退火爐) |
120分鐘內900元;超過120分鐘:900+6元/分 |
120分鐘內1,800元;超過120分鐘:1,800+12元/分 |
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薄膜區 |
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E-beam Evaporator Metal major |
抽真空不計費,電子束開啟30分鐘內520元; |
抽真空不計費,電子束開啟30分鐘內1,040元; |
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(電子束蒸鍍機-金屬) |
超過30分鐘: 520+6元/分 |
超過30分鐘: 1,040+12元/分 |
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E-beam Evaporator Oxide major |
抽真空不計費,電子束開啟30分鐘內520元; |
抽真空不計費,電子束開啟30分鐘內1,040元; |
|
(電子束蒸鍍機-氧化物) |
超過30分鐘: 520+6元/分 |
超過30分鐘: 1,040+12元/分 |
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Sputter(射頻濺鍍機) |
抽真空不計費,電漿開啟30分鐘內520元; |
抽真空不計費,電漿開啟30分鐘內1,040元; |
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超過30分鐘: 520+15元/分 |
超過30分鐘: 1,040+30元/分 |
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分析區 |
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SEM(掃描式電子顯微鏡) |
60分鐘內720元;超過60分鐘:720+360元/30分 |
60分鐘內1,440元;超過60分鐘:1,440+720元/30分 |
不足30分鐘以30分鐘計算 |
EDS |
240元/30分 |
480元/30分 |
不足30分鐘以30分鐘計算 |
Sputter Coater(SEM鍍金機) |
300元/30分 |
600元/30分 |
不足30分鐘以30分鐘計算 |
表面輪廓儀 |
7元/分 |
14元/分 |
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雷射共軛聚焦顯微鏡 |
7元/分 |
14元/分 |
|
橢圓儀 |
7元/分 |
14元/分 |
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半導體參數分析儀 |
7元/分 |
14元/分 |
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以上為自行操作之儀器使用費;若為委託中心人員代為操作需要「乘以」1.2(學校管理費)