卓越大樓無塵室設備收費標準

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 儀器訓練檢定收費標準

儀器訓練檢定收費標準

 

收費項目

學術單位

營利機構

備註

 

訓練

檢定

訓練

檢定

 

無塵室一般訓練

300

600

10人開課

黃光室

Spin Coater

(多段式、兩段式光阻旋轉塗佈機)

600

600

1,200

1,200

3~5

Karl Suss Aligner MA8

(6吋單面對準曝光機)

1,200

1,200

2,400

2,400

3~5

Karl Suss Aligner MA6

(雙面對準曝光機)

1,200

1,200

2,400

2,400

3~5

Substrate Bonder

(晶片接合機)

1,200

1,200

2,400

2,400

3~5

Laser Pattern Generator

(雷射光罩製作系統)

不開放自行操作

不開放自行操作

不開放自行操作

不開放自行操作

 

爐管區

APCVD

不開放自行操作

不開放自行操作

不開放自行操作

不開放自行操作

3~5

LPCVD

不開放自行操作

不開放自行操作

不開放自行操作

不開放自行操作

3~5

PECVD

(電漿輔助化學氣相沉積系統)

1,200

1,200

2,400

2,400

3~5

蝕刻區

矽蝕刻-電感耦合電漿蝕刻機

ICP-RIE(SAMCO)

1,200

1,200

2,400

2,400

3~5

多材料蝕刻-電感耦合電漿蝕刻機

ICP-RIE(Oxford)

1,200

1,200

2,400

2,400

3~5

RIE(反應離子蝕刻機)

RIE(Oxford)

1,200

1,200

2,400

2,400

3~5

RIE介電材料

1,200

1,200

2,400

2,400

3~5

RIE光阻材料

1,200

1,200

2,400

2,400

3~5

RTA(快速退火爐)

1,200

1,200

2,400

2,400

3~5

薄膜區

E-beam Evaporator Metal major

(電子束蒸鍍機-金屬)

1,200

1,200

2,400

2,400

3~5

E-beam Evaporator Oxide major

(電子束蒸鍍機-氧化物)

1,200

1,200

2,400

2,400

3~5

Sputter(射頻濺鍍機)

1,200

1,200

2,400

2,400

3~5

分析區

SEM(掃描式電子顯微鏡)

1,200

1,200

2,400

2,400

3~5

EDS

1,200

1,200

2,400

2,400

3~5

Sputter Coater(SEM鍍金機)

1,200

1,200

2,400

2,400

3~5

表面輪廓儀

600

600

1,200

1,200

3~5

雷射共軛聚焦顯微鏡

600

600

1,200

1,200

3~5

橢圓儀

600

600

1,200

1,200

3~5

半導體參數分析儀

600

600

1,200

1,200

3~5

儀器使用費列表 

 

收費項目

校內學術單位

校外學術單位

營利機構

備註

潔淨室

5/

6/

10/

 

黃光區

Spin Coater

(多段式、兩段式光阻旋轉塗佈機)

200+6/

(即開機費200)

250+8/

(即開機費250)

400+12/

(即開機費400)

 

Karl Suss Aligner MA8

(6吋單面對準曝光機)

750+20/

(即開機費750)

900+22/

(即開機費750)

1,500+40/

(即開機費1,500)

 

Karl Suss Aligner MA6

(雙面對準曝光機)

750+20/

(即開機費750)

900+22/

(即開機費750)

1,500+40/

(即開機費1,500)

 

Substrate Bonder

(晶片接合機)

60分鐘內850;

超過60分鐘:850+10/

60分鐘內1000;

超過60分鐘:850+12/

60分鐘內2000;

超過60分鐘:850+20/

 

Laser Pattern Generator

(雷射光罩製作系統)

14000 六吋

10000 五吋

9000 四吋

1000(審圖費/小時)

14500 六吋

10500 五吋

9500 四吋

1000(審圖費/小時)

28000 六吋

20000 五吋

18000 四吋

1500(審圖費/小時)

特殊使用:

學界:250/分;業界:500/

爐管區

APCVD

1,000+18-20/(即開機費1,000元;依材料)

1,200+20-22/(即開機費1,200元;依材料)

2,000+36-40/(即開機費2,000元;依材料)

 

LPCVD

1,000+18-36/(即開機費1,000元;依材料)

1,200+20-38/(即開機費1,200元;依材料)

2,000+36-72/(即開機費2,000元;依材料)

 

PECVD

(電漿輔助化學氣相沉積系統)

1,000+50/

 (即開機費1,000)

1,200+55/

 (即開機費1,200)

2,000+100/

 (即開機費2,000)

 

蝕刻區

矽蝕刻-電感耦合電漿蝕刻機

ICP-RIE(SAMCO)

1,200+200/

 (即開機費1,200)

1,300+300/

 (即開機費1,300)

2,400+400/

 (即開機費2,400)

 

多材料蝕刻-電感耦合電漿蝕刻機

ICP-RIE(Oxford)

1,200+60/

 (即開機費1,200)

1,300+70/

 (即開機費1,300)

2,400+120/

 (即開機費2,400)

 

RIE(反應離子蝕刻機)

RIE(Oxford)

1,200+60/

 (即開機費1,200)

1,300+70/

 (即開機費1,300)

2,400+120/

 (即開機費2,400)

 

RIE介電材料

750+30/

(即開機費750)

800+35/

(即開機費800)

1500+60/

(即開機費1500)

 

RIE光阻材料

500+30/

(即開機費750)

800+35/

(即開機費800)

1000+60/

(即開機費1500)

 

RTA(快速退火爐)

120分鐘內2000元;超過120分鐘:2000+15/

120分鐘內2200元;超過120分鐘:2200+17/

120分鐘內4000元;超過120分鐘:4000+30/

 

薄膜區

E-beam Evaporator Metal major

(電子束蒸鍍機-金屬)

抽真空不計費,電子束開啟30分鐘內1,200;

超過30分鐘: 1,200+12/

抽真空不計費,電子束開啟30分鐘內1,250;

超過30分鐘: 1,250+15/

抽真空不計費,電子束開啟30分鐘內2,400;

超過30分鐘: 2,400+24/

 

E-beam Evaporator Oxide major

(電子束蒸鍍機-氧化物)

抽真空不計費,電子束開啟30分鐘內1,200;

超過30分鐘: 1,200+12/

抽真空不計費,電子束開啟30分鐘內1,250;

超過30分鐘: 1,250+15/

抽真空不計費,電子束開啟30分鐘內2,400;

超過30分鐘: 2,400+24/

 

Sputter(射頻濺鍍機)

抽真空不計費,電漿開啟30分鐘內1,200;

超過30分鐘: 1,200+12/

抽真空不計費,電漿開啟30分鐘內1,250;

超過30分鐘:1,250+15/

抽真空不計費,電漿開啟30分鐘內2,400;

超過30分鐘: 2,400+24/

 

分析區

SEM(掃描式電子顯微鏡)

60分鐘內1,200;超過60分鐘:1,200+600/30

60分鐘內1,300;超過60分鐘:1,300+650/30

60分鐘內2,400;超過60分鐘:2,400+1200/30

60分鐘1200元,之後每30分鐘600元,不足30分鐘以30分鐘計算

EDS

400/30

450/30

800/30

不足30分鐘以30分鐘計算

Sputter Coater(SEM鍍金機)

500/30

600/30

1000/30

不足30分鐘以30分鐘計算

表面輪廓儀

15/

17/

30/

 

雷射共軛聚焦顯微鏡

15/

17/

30/

 

橢圓儀

15/

17/

30/

 

半導體參數分析儀

15/

17/

30/